导航

美国Chernoff博士讲座--原子力显微镜皮米级测量技术

发布时间：2011-06-29 12:00:00发布者：系统管理员阅读次数：2102

 

    应化工学院甘阳教授邀请，美国Advanced Surface Microscopy公司总裁Don Chernoff博士来访并讲学，报告安排如下：
    报告人：Don Chernoff博士
 
    报告题目：原子力显微镜的皮米（10-12m）级测量技术与高密度存储介质发展
 
    关键词：原子力显微镜（AFM）；测量标准；高密度存储；光子晶体
 
    地点：一校区新技术楼，210房间，精密工程研究所会议室
    时间：9点，6月30日，周四
 
    数据存储技术正朝着存储密度>1012位/平方英寸迈进，要求存储介质纳米结构的点距<15 nm，这对高准确度三维测量技术提出了很高的要求。本报告中，我们将展示如何用原子力显微镜（AFM）进行储存介质点距的高准确度表征。通过使用标准光栅作为长度测量的可溯源标样，并结合自己设计的一套数据采集系统，我们大幅改善了通用AFM中普遍存在的成像放大倍率不稳定和图像失真问题，从而实现了高准确度测量结果的可溯源校准。该方法获得的测量准确度已获得德国PTB，美国NIST和新加坡NMC的证实：其中144 nm二维光栅点距测量平均值，与德国PTB光学衍射实验室的仅相差33 pm；70 nm一维光栅的点距测量平均值，与美国NIST和新加坡NMC校准AFM的仅相差25 pm。另外，我们也将讨论相关研究结果对纳米结构调制的光子晶体研发的意义。
 
    报告人简介：
    Don Chernoff博士，芝加哥大学化学学士（1973）、物理化学博士（1978），美国Advanced Surface Microscopy公司创始人、总裁（1990）。公司拥有独立的分析研究和测试实验室，专门用扫描探针显微镜解决加工和材料研发中的问题，是提供扫描探针显微镜可溯源标准测量的领先企业。公司和个人业绩：通过对AFM和SEM图像进行尺寸、形貌和位置的高准确度测量，为世界DVD和蓝光光盘的量产提供了强有力的技术支持。他本人提出了广为应用的AFM相位成像技术，该技术可用来获得除表面形貌外的表面不同区域性质的重要信息。他的研究兴趣十分广泛，体系包括硅片等超精细抛光表面，各种形态的聚合物，纳米药物微球和颗粒，DNA及多肽复合物，光盘，磁记录头和磁盘，纸和贺卡上的装饰物（J）。
 

 

最近更新